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光掩膜最新資訊,投資界全方位播報光掩膜相關話題,全面解讀光掩膜投資、融資、并購等動態(tài)。
下一代EUV光刻機
當前大芯片十分火熱,但卻由于尺寸太大無法適應高 NA 曝光工具的 ? 場。為了能夠繼續(xù)生產具有相似尺寸的芯片,需要采用拼接。換句話說,就是一部分芯片使用一個掩膜進行圖案轉印,而其余部分通過第二個掩膜曝...
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半導體行業(yè)觀察
2022-05-30 13:00
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